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Nationaler Inventarbericht zum Deutschen ... - QFC

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<strong>Nationaler</strong> <strong>Inventarbericht</strong> Deutschland – 2012<br />

4.7.5 Lösemittel (2.F.5)<br />

Umweltbundesamt<br />

4.7.5.1 Beschreibung der Quellgruppe (2.F.5)<br />

Der Einsatz von HFKW als Lösemittel war in Deutschland bis <strong>zum</strong> Jahr 2001 verboten<br />

(2. BImSchV) und ist auch heute noch stark eingeschränkt. Jede Anwendung muss einzeln<br />

beantragt werden, wobei eine Bewilligung nur im Sonderfall erteilt wird.<br />

4.7.5.2 Methodische Aspekte (2.F.5)<br />

Die Emissionsberechnung erfolgt nach Tier 2 der IPCC-GPG 2000 (Gleichung 3.36).<br />

Emissionsfaktoren<br />

Bei der Verwendung geht man von einer vollständigen Emission innerhalb von 2 Jahren aus.<br />

Aktivitätsdaten<br />

Die Emissionsangaben basieren auf Verkaufsdaten des autorisierten Händlers und betreffen<br />

ausschließlich HFKW-4310mee. Da die Daten vertraulich sind, werden sie unter CRF 2.G<br />

berichtet.<br />

4.7.5.3 Unsicherheiten und Zeitreihenkonsistenz (2.F.5)<br />

Die Unsicherheiten für die Unterquellgruppe Lösemittel wurden vollständig erfasst.<br />

4.7.5.4 Quellenspezifische Rückrechnungen (2.F.5)<br />

Rückrechnungen sind nicht erforderlich.<br />

4.7.5.5 Geplante Verbesserungen, quellenspezifisch (2.F.5)<br />

Derzeit sind keine Verbesserungen geplant.<br />

4.7.6 Andere Anwendungen, die ODS Ersatzstoffe verwenden (2.F.6)<br />

Deutschland berichtet keine Emissionen in dieser Quellkategorie<br />

4.7.7 Halbleiterproduktion (2.F.7)<br />

4.7.7.1 Beschreibung der Quellgruppe (2.F.7)<br />

In der Halbleiterindustrie emittieren gegenwärtig FKW (CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , c-C 4 F 8 ), HFKW<br />

(CHF 3 ), Stickstofftrifluorid (NF 3 ) und SF 6 aus dem Fertigungsprozess. Diese Gase werden<br />

<strong>zum</strong> Strukturätzen dünner Schichten und <strong>zum</strong> Reinigen der Reaktionskammern nach dem<br />

CVD-Prozess (Chemical Vapour Deposition) eingesetzt. Einige der in die Plasmakammern<br />

eingebrachten FKW werden im Produktionsprozess teilweise zu CF 4 umgewandelt.<br />

Die Emissionen aus der Halbleiterindustrie hängen <strong>zum</strong> einen von der Häufigkeit des<br />

Einsatzes von Abgasreinigungstechniken ab. Zum anderen hat die jährlich produzierte<br />

Menge an Halbleitern direkten Einfluss auf die Emissionen. Daraus resultieren relativ starke<br />

jährliche Schwankungen in den Emissionen.<br />

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