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Callister_-_Engenharia_e_Cincia_dos_Materiais_ptg_ ... - Ufrgs

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compostos do III-V. Os compostos constitui<strong>dos</strong> de elementos de Grupos IIB e VIA também<br />

exibem comportamento semicondutor; esses incluem sulfeto de cádmio (CdS) e telureto de zinco<br />

(ZnTe). À medida que os dois elementos que formam esses compostos se tornam mais largamente<br />

separa<strong>dos</strong> em relação às suas posições relativas na tabela periódica, a ligação atômica se torna mais<br />

iônica e a magnitude da lacuna (“gap”) de banda de energia cresce – os materiais tendem a se<br />

tornar mais isolantes. A Tabela 19.2 dá as lacunas de banda para alguns compostos<br />

semicondutores.<br />

Tabela 19.2 – Energias de lacuna (“gap”) de banda, Mobilidades de elétrons e de buracos, e<br />

condutividades elétricas intrínsecas à Temperatura Ambiente para <strong>Materiais</strong> semicondutores.<br />

(a) Conceito de Buraco<br />

Em semicondutores intrínsecos, para cada elétron excitado para dentro da camada de<br />

condução existirá deixado para trás um elétron faltante numa das ligações covalentes, ou no<br />

esquemada banda, um estado eletrônico vacante na banda de valência, como mostrado na Figura<br />

19.6b. Sob a influência de um campo elétrico, pode-se pensar que a posição desse elétron faltante<br />

dentro da rede cristalina esteja se movendo pelo movimento de outros elétrons de valência que<br />

repetitivamente preenchem a ligação incompleta (Figura 19.10). Este processo é acelerado tratando<br />

um elétron faltante na banda de valência como uma partícula positivamente carregada chamada<br />

buraco (“hole”). Considera-se que umburaco tem uma carga que é da mesma ordem de grandeza<br />

daquela de um elétron, mas de sinal oposto (+ 1,6 x 10 -19 C). Assim na presença de um campo<br />

elétrico, elétrons e buracos excita<strong>dos</strong> se movem em senti<strong>dos</strong> opostos. Além disso, em<br />

semicondutores tanto elétrons quanto buracos são espalha<strong>dos</strong> por imperfeições de rede.<br />

Figura 19.10 – Modelo de ligação eletrônica de condução elétrica em silício intrínseco: (a) antes da<br />

excitação; (b) e (c) após a excitação (os subsequentes movimentos elétrons livres e buracos em<br />

resposta a um campo elétrico externo).<br />

(b) Condutividade Intrínseca<br />

Uma vez que existem dois tipos de portadores ( elétrons livres e buracos) num<br />

semicondutor intrínseco, a expressão para condução elétrica, Equação 19.8, deve ser modificada<br />

para incluir um termo que leve em conta a contribuição da corrente de buraco. Portanto nós<br />

podemos escrever<br />

σ = n | e | µ e + p | e | µ h (19.13)<br />

onde p é o número de buracos por metro cúbico e µ h é sempre menor do que µ e para<br />

semicondutores. Para semicondutores intrínsecos, cada elétron promovido através da lacuna<br />

(“gap”) de banda deixa para trás um buraco na banda de valência, assim<br />

n = p (19.14)

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