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Elektronendelokalisation in ein - KOPS - Universität Konstanz

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II. Div<strong>in</strong>ylphenylen-verbrückte Rutheniumkomplexe<br />

1062 nm und 1252 nm und s<strong>in</strong>d wesentlich <strong>in</strong>tensiver als <strong>in</strong> [I] + (ca. Faktor 2) und [II] +<br />

(Faktor ca. 6 bzw 18 für die Bande bei höherer bzw. niedrigerer Energie). Dies zeigt<br />

nochmals den Unterschied zwischen den ähnlichen Klasse II-Komplexen [I] + und [II] +<br />

und dem „Borderl<strong>in</strong>e II/III“-System [III] + . Da die Komplexe die gleichen strukturellen<br />

B<strong>in</strong>dungsmotive aufweisen, resultieren die verschiedenen Ladungsdelokalisationsparameter<br />

∆ρ der Div<strong>in</strong>ylruthenium-Komplexe ausschließlich aus dem Substitutionsmuster<br />

an der disubstituierten Phenylenbrücke. Je höher ∆ρ, desto stärker ist die<br />

Delokalisation im System der gemischt-valenten Spezies. Somit ist der Grad der<br />

Delokalisation bei 1,4-Substitution des Phenylenr<strong>in</strong>gs am größten, gefolgt von der<br />

1,2-Substitution. Am schwächsten delokalisiert ist das 1,3-substituierte Derivat. Damit<br />

steigt die elektronische Kopplung <strong>in</strong> den Dirutheniumv<strong>in</strong>yl-Komplexen <strong>in</strong> der<br />

Reihenfolge [II] +

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