03.06.2013 Views

Pobierz Podręcznik - Przedsiębiorczy Uniwersytet - Instytut Badań ...

Pobierz Podręcznik - Przedsiębiorczy Uniwersytet - Instytut Badań ...

Pobierz Podręcznik - Przedsiębiorczy Uniwersytet - Instytut Badań ...

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

250, ze zwiększoną precyzją odwzorcowania, pozwalającą na automatyczną obsługę<br />

wafli 300 mm i automatyczny załadunek wzorca. 25 Po raz pierwszy urządzenie<br />

to sprzedano na początku 2007 r. W tym roku ogółem sprzedano ponad 20<br />

urządzeń. 26 W 2007 ukazała się kolejna generacja maszyn IMPRIO 1100, przeznaczonych<br />

głownie dla optoektroniki, producentów diod LED, mikroprocesorów<br />

wykorzystujących technologię CMOS i twardych dysków. Bardzo szybko sprzedano<br />

dwie maszyny i pojawiły się zamówienia na kolejne egzemplarze. 27 Usterkowość<br />

udało się ograniczyć do poziomu poniżej 0,3 usterek na cm 2 . 28 W rok później<br />

wyprodukowano IMPRIO 300, następcę IMPRIO 250 z udoskonaloną automatyką,<br />

większą precyzją i szybkością działania, z przeznaczeniem przede wszystkim<br />

na rynek producentów pamięci.29 W kilka miesięcy później opracowano nowa<br />

wersje modelu 1100 – IMPRIO 2200, którą zakupiła firma Hitachi. To ostatnie<br />

urządzenie umożliwiało produkcję układów na skalę przemysłową, umożliwiając<br />

wytwarzanie 180 wafli na godzinę. 30<br />

1.5. Aplikacje przemysłowe<br />

W ocenie prezesa firmy, Marka Melliar Smitha, przedstawionej w 2008 r.,<br />

technologia SFIL ma szansę stać się wiodącą technologią przy produkcji układów<br />

CMOS, pomimo problemów, takich jak, np. usterkowość, ciągle jeszcze pozostająca<br />

na wyższym poziomie, niż w przypadku litografii optycznej. Wyższy odsetek<br />

usterek zmuszał firmę do poszukiwania aplikacji mniej wrażliwych na defekty. 31<br />

W połowie 2008 r. technologia SFIL, w wersji dostępnej w urządzeniu IMPRIO<br />

2200, okazała się niezwykle przydatną dla produkcji twardych dysków w nowej<br />

technologii DTR. Technologia ta, która w 2008 r. z fazy badań przeszła do fazy<br />

pilotażowej produkcji, wywołała duże zainteresowanie urządzeniami NIL, także<br />

tymi produkowanymi przez MII. Posypały się zamówienia na nowe urządzenia 32 .<br />

Ogółem, do marca 2009 MII sprzedał 30 systemów do produkcji mikroprocesorów<br />

i pamięci komputerowych, a do końca 2009 r. spodziewane jest dalsze zwiększenie<br />

sprzedaży. Przychody ze sprzedaży wyniosły w 2007 roku 15 milionów dolarów,<br />

w 2008 utrzymały się na podobnym poziomie, a w 2009 spodziewany jest wzrost<br />

do 25 milionów dolarów. Chcąc sprostać nowym oczekiwaniom firma w lutym<br />

2009 zwiększyła zatrudnienie do 120 pracowników i ciągle planuje zatrudnianie<br />

nowych osób. 33 O wadze opracowanej na Uniwersytecie Austin i udoskonalonej<br />

25 Molecular Imprints Press Release, 28/2/2005.<br />

26 A. Hand, Molecular Imprints Jumps IDM Hardle, Semiconductor International, 2/1/2007.<br />

27 Molecurar Imprints Press Release, 12/2/2007<br />

28 EE Times 16/10/2007.<br />

29 Molecular Imprint Press release, 25/2/2008.<br />

30 Tamże, 5/5/2008.<br />

31 R. Wilson, Can Molecular Imprints circumvent lithography altogether, Electronic Design Strategy, 26/2/2008.<br />

32 D. Lammers, MII Takles Patterned Media Opportunity, Semiconductor International, 22/5/2008.<br />

33 M. LaPedus, Mollecular Imprints is unbeaten about 2009, EE Times, 24/2/2009.<br />

273

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!