Pobierz Podręcznik - Przedsiębiorczy Uniwersytet - Instytut Badań ...

Poszukiwanie nisz technologicznych. Molecular Imprints
• zbudowanie partnerskich powiązań między instytucjami badawczymi a przemysłem;
• strategia budowania sukcesu firmy w oparciu o ochronę własności przemysłowej;
• koncentracja na badaniach i na rozwoju technologii, nawet kosztem bieżącej
sprzedaży.
Dla sukcesu przedsięwzięcia ważne było również poszukiwanie niszowych zastosowań
nowej technologii. Wynalazcy szybko zdali sobie sprawę z ograniczeń
nanolitografii w produkcji standardowych mikroprocesorów. Jednak ich wytrwałość
w usuwaniu problemów i poszukiwaniu nowych zastosować przyczyniła się
do uznania wartości komercyjnej technologii SFIL.
280
Bibliografia
1. A.E. Braun, S.V. Sreenivasan, Semiconductor International, May 1st, 2005.
2. K. Derbyshire, An Impression of the Future, Semiconductor Manufacturing,
July 2004 vol. V.
3. Czterdzieści lat prawa Moore’a, http://www.intel.com/cd/corporate/techtrends/EMEA
4. A. Hand, Molecular Imprints Jumps IDM Hardle, Semiconductor International,
2/1/2007.
5. M. Falcon, A. Ausman, Molecular Imprints, A Case study on success through
Strategic Industry and Academic Partnership, Nanotechnology Law and Business,
Vol 1.4. s. 423.
6. Interwiew with S.V. Sreenivasan, Semiconductor International, May 2005.
7. D. Lammers, MII Takles Patterned Media Opportunity, Semiconductor International,
22/5/2008.
8. M. LaPedus, Mollecular Imprints is unbeaten about 2009, EE Times, 24/2/2009.
9. M. Lejman, Krzemowy cud, PC Word, Listopad 2001.
10. Molecular Imprints Press Release, 2001-2009.
11. Nanotech firm makes imprint, Austin Business Journal, November 24, 2003.
12. Press Information, University of Texas – Austin , August 14th, 2001.
13. Spinnoff Draws 9,2 M, Austin Business Journal, February 22, 2002.
14. Stamping out Chips, Semiconductor Innovations, 10/06/2003.
15. The University of Texas at Austin News, August 27, 2008.
16. Will Nanotech Preserve Moore’s Law. Forbes Wolfe Nanotech Report, September
2003, s.1.
17. R.Wilson, Can Molecular Imprints circumvent lithography altogether, Electro-
nic Design Strategy, 26/2/2008.