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MainStage 3 Instrumente Für OS X - Apple

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Wellenform Anmerkungen<br />

Sample & Hold In den beiden Einstellungen von „Sample & Hold“ (S<br />

& H) gibt der LFO Zufallswerte aus. Diese werden in<br />

regelmäßigen Zeitabständen ausgegeben, die durch<br />

die LFO-Frequenz bestimmt werden. Die Wellenform<br />

„S & H“ schaltet schrittweise schlagartig zwischen<br />

Zufallswerten um. Die Einstellung „S & H Lag“ rundet<br />

die Zufallswellenform sanft ab, was dezentere<br />

Übergänge schafft.<br />

Der Begriff „Sample & Hold“ (S & H) leitet sich von<br />

einem technischen Verfahren ab, bei dem von<br />

einem Rauschsignal in regelmäßigen Zeitabständen<br />

Samples erstellt werden. Die Werte dieser Samples<br />

werden dann gehalten bis zur Entnahme des<br />

nächsten Samples.<br />

Tipp: Eine zufällige Modulation der Tonhöhe (Pitch)<br />

führt zu einem Effekt, der als random pitch pattern<br />

generator oder unter der Bezeichnung „Sample &<br />

Hold“ bekannt ist. Probieren Sie eine sehr schnelle<br />

und intensive Modulation sehr hoher Noten aus.<br />

Sicherlich kennen Sie diesen Effekt aus vielen<br />

Science-Fiction-Filmen.<br />

Filtered Noise Kann für chaotische Modulationen eingesetzt werden,<br />

ist aber auch besonders nützlich in Zusammenhang<br />

mit der LFO-Envelope-Funktion, bei der eine<br />

kurze Rauschmodulation an einem bestimmten<br />

Punkt im Ablauf des Tons erfolgen soll – etwa als<br />

Anblasgeräusch bei Bläsern, als Klopfgeräusch des<br />

Hammers beim Klavier oder als Tastaturklicken bei<br />

Orgeln. Der Zufallscharakter der Wellenform des<br />

Rauschens bedeutet auch, dass der Charakter der<br />

Modulation bei jeder Note leicht variiert.<br />

Modulieren von LFOs in Sculpture<br />

Jedem LFO können zwei Modulationsziele zugewiesen werden. Zusätzlich können Sie noch eine<br />

optionale via-Modulation zuweisen.<br />

Kapitel 13 Sculpture 249

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