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Volumen II - SAM

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Congreso <strong>SAM</strong>/CONAMET 2009 Buenos Aires, 19 al 23 de Octubre de 2009<br />

Equipo 2<br />

Reactor de descarga continua.<br />

Figura 2. Ilustración esquemática del reactor RPECVD de descarga continua (glow discharge).<br />

El flujo de monómero puede ser deducido en ambos equipos, a partir de la presión alcanzada respecto de la<br />

presión inicial en el interior de la cámara del reactor, la que es determinada por medio de un medidor<br />

capacitivo, el monómero está contenido en una ampolla de vidrio sumergida en un baño de aceite<br />

termalizado de temperatura controlada, para mantener su presión de vapor constante.<br />

El flujo de gas reactivo se controló con un equipo mass flow controller M.K.S.<br />

La composición superficial y los grupos funcionales fueron determinados usando un microscopio electrónico<br />

de barrido marca Philips provisto de un equipo analizador Edax, y un equipo Fourier transform infrared<br />

spectroscopy (FTIR) (Nicolet Mod. MAGNA 560), respectivamente. El espesor fue medido usando un<br />

perfilómetro mecánico (Mitutoyo Mod. Surftest SV-400) y la dureza por medio de un microdurómetro<br />

(Akashi Mod. MVK-H2).<br />

3. RESULTADOS Y DISCUSIÓN<br />

3.1. Uso de reactor de radiofrecuencia<br />

Con el equipo experimental descrito en Fig.1 (RF), se realizaron recubrimientos de Si3N4 a temperaturas<br />

500ºC y 750ºC, con y sin BIAS utilizando una mezcla de Hexametildisilazano (Z6079) y nitrógeno en<br />

procesos individuales, y en diferentes condiciones de proceso, ver tabla I al término de esta sección, a fin de<br />

evaluar los que asegurasen los mejores resultados posibles.<br />

Los resultados obtenidos se analizaron por medio de las técnicas FTIR y Microscopía electrónica de barrido<br />

en películas de 3 m de espesor.<br />

Fig. 3 Espectros FTIR producidas Z6079 con el aporte de N2.<br />

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