Volumen II - SAM

En el presente trabajo se determinó la frecuencia de plasma en una película delgada de una aleación simple
de base Al, para poder establecer una relación entre la composición de dicha aleación y las frecuencias de
plasma de los materiales puros que la componen.
2. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
• Fabricación de las Películas de Al-Si
Para la deposición de las películas delgadas de Al-Si, se utilizó un equipo de alto vacío conformado por una
bomba mecánica y una difusora, ambas conectadas a una campana de vacío. También se contó con tres
manómetros dispuestos como muestra la figura 1. El procedimiento consistió en colocar el material en una
canastilla hecha de un filamento de tungsteno. Este a su vez se conecta con una fuente de potencia variable
que permite controlar la corriente que circula por el filamento y la consiguiente evaporación de la aleación.
Campana
de Vacío
Prisma
de Vidrio
Soporte
Aleación base Al
Canastilla
Bomba
Difusora
Pre-Vacío
B
C
X
Fuente de
Potencia
Bomba
Mecánica
X. Válvula de Conexión
Manómetros:
A y B. de Termocupla
C. De Ionización
Figura1: Dispositivo utilizado para la deposición de las películas de Al-Si.
Al evaporarse, las partículas se depositaron sobre un prisma triangular de vidrio que se hallaba apoyado en
un soporte por encima de la canastilla. Un esquema del prisma con el film ya depositado se aprecia en la
figura 2. Se depositó una película de composición Al-1%at.Si.
Prisma triangular
Película de Al-Si
Figura 2: Representación del film una vez depositado sobre el prisma.
• Medición de la Reflectividad
El dispositivo experimental estaba constituido por un goniómetro sobre el que se apoyaba el prisma, de modo
tal que la cara que contenía al film quede normal a la superficie de la platina del goniómetro y coincidiendo
con el diámetro de la misma, como se muestra en la figura 3. Se hizo incidir sobre uno de los catetos del
prisma un haz de luz proveniente de un láser rojo cuya longitud de onda nominal es de 632,8 nm.
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