Volumen II - SAM

Congreso SAM/CONAMET 2009 Buenos Aires, 19 al 23 de Octubre de 2009
3.1. Uso de reactor de descarga continua.
Con el equipo experimental descrito en la Fig. 2 de descarga continua, se realizaron
recubrimientos de Si3N4 a temperaturas 700ºC, utilizando una mezcla de hexametildisilasano
(Z6079) y nitrógeno en procesos individuales, y en diferentes condiciones de proceso a fin de evaluar los
que asegurasen los mejores resultados posibles.
Los resultados obtenidos se analizaron por medio de las técnicas FTIR y Microscopía electrónica de barrido
en películas de 3 m de espesor.
Resultados preliminares del análisis FTIR.
Figura 5. Espectros FTIR producidas Z6079 con el aporte de N2.
TABLAII CONDICIONES PARCIALES DE PROCESO
Reactivo
y gas de
proceso
Z6079
Caudal Potencia de
descarga
350sccm 800W
N2 50sccm 800W
En todos los casos la temperatura del sustrato fue de 700ºC.
Los resultados de los procesos realizados con otros potenciales y temperaturas presentaron resultados no
satisfactorios, en lo relativo a adherencia y ataque químico con KOH, por lo que no se consignan.
Análisis por microscopía
En la figura 6 se muestra un espectro obtenido mediante la utilización de un microscopio electrónico de
barrido equipado con un sistema de microanálisis dispersivo en energía. El espectro se obtuvo utilizando un
potencial acelerador de 12 KeV.
El análisis en superficie de un recubrimiento realizado sobre un substrato de M2 pone en evidencia el Si
presente en el recubrimiento y la presencia del hierro del substrato.
Figura 6. Análisis con microscopio electrónico de barrido. EDAX.
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