Volumen II - SAM

Tabla 2. Parámetros electroquímicos relevantes obtenidos a partir de las
curvas de polarización anódicas luego de 2 hs a OCP en latón.
ATW ATW + 5 mg l -1 de P ATW + 10 mg l -1 de P
ECORR (mVECS) -47,49 ± 2,28 -81,22 ± 12,85 -64,87 ± 18,21
EPIC (mVECS) -12,5 ± 4,95 53,33 ± 10,69 141,07 ± 21,72
ERP (mVECS) -21 ± 3,60 -36,01 ± 10,54 -15,37 ± 3,54
EPIC-ECORR (mVECS) 34,99 134,55 205,94
EPIC-ERP (mVECS) 8,5 89,34 156,44
ERP-ECORR (mVECS) 26,49 45,21 49,5
A B C
Figura 3. Micrografías de los electrodos empleados en los ensayos de picado (aumento 50X);
(A) ATW, (B) ATW +5 mg l -1 de P y (C) ATW + 10 mg l -1 P.
La diferencia (EPIC-ECORR) determina la resistencia de un metal al ataque por picado [7]. Esta
diferencia aumenta con el incremento en la concentración del inhibidor. La misma tendencia puede
observarse con la diferencia (EPIC-ERP). Sin embargo, la diferencia (ERP-ECORR) no cambia substancialmente.
La mayor resistencia al picado puede asociarse, junto a una menor densidad de picaduras, al desarrollo de
una película superficial más protectora. Pero, cuando el picado se inicia el proceso de repasivación no resulta
favorecido. En las curvas de polarización anódicas (figura 2), una vez que se invierte el barrido, se necesitan
2300 seg. para alcanzar el ERP en presencia de 10 mg l -1 de P, mientras que en ATW sólo son necesarios 895
seg. Una diferencia (EPIC-ERP) mayor ha sido asociada a un proceso de disolución más activo dentro de la
picadura [8].
El principio HSAB (hard soft acids basis) explica la adsorción de iones y moléculas sobre superficies
metálicas desnudas u oxidadas [8]. Estos iones y moléculas se clasifican en blandos o duros de acuerdo a su
tamaño, carga nuclear efectiva, polarizabilidad, oxidabilidad y presencia de orbitales vacíos de baja energía
[9]. Ácidos duros prefieren adsorberse a bases duras, y ácidos blandos a bases blandas. En este contexto un
metal desnudo actúa como ácido blando y un metal oxidado como un ácido duro. De esta forma, aniones
blandos pueden adsorberse en el fondo de una picadura, inhibiendo su crecimiento, al desplazar a los iones
cloruros adsorbidos [8]. Los iones PO4 3- actúan como bases duras [9] por lo que no pueden adsorberse sobre
el metal desnudo.
4. CONCLUSIONES
Los resultados indican cambios en la composición de la película superficial en presencia del
inhibidor, aún con la dosis más baja evaluada, mientras que no se han observado diferencias
significativas entre ATW con 10 y 20 mg l -1 de P.
Los cambios en la composición de la película superficial se reflejan en una mayor resistencia
a la corrosión del tipo generalizada, ya que los valores de Rp son mayores en presencia del
inhibidor. La dosis mínima de inhibidor evaluada (5 mg l -1 P) fue suficiente para obtener la
repuesta óptima.
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